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氢气纯化器

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氢气纯化器

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产品描述

钯膜氢气纯化器/ Palladium Membrane Hydrogen Purifier                           

产氢量/ H2 Output:0-50m³/h;

氢纯度/ H2 purity:≥ 99.9999999%(9N),与原料气纯度相关;     

主要用途/ Main applications:MPCVD培育钻石/MPCVD Lab-grown Diamond、色谱/ Gas Chromatography、燃料电池/ Fuel Cell、电子/ Electronics、冶金/ Metallurgy       

一、产品介绍

基于公司金属钯膜的氢气纯化系统具有体积小、操作简单、产氢纯度高等优势,能够有效截留除氢气之外的其它任何物质,不仅与氢能需求具有完美的契合度,而且在MPCVD培育钻石、粉末冶金、MOCVD半导体、色谱分析载气、光伏、核能等众多高科技产业都有广泛应用。

二、纯化原理

利用只有氢原子才能透过钯晶格的特性,可以实现氢气的单方选择性,即在压力驱动下,氢气能够很容易地透过钯膜,而其它任何气体都不能透过,即使对氦气也可以有效截留,这是其它任何氢气纯化方法无法企及的。

目前常用的吸附法纯化氢气设备体积大且复杂,除杂能力取决于所选择的吸附剂,因此原料气中出现意料之外的有毒成分时可能无法截留。许多时候,吸附法纯化所标出的产氢纯度只是一种相对纯度而非绝对纯度,即人为忽略“无害”和“意外”杂质气之后的纯度,在使用过程中容易带来隐患,尤其是面向MPCVD培育钻石和氢燃料电池领域应用。而钯膜纯化法则不存在这一问题。

之所以钯膜能够对氢气有超高的纯化能力,是因为氢气透过钯膜的方式为溶解—扩散模式,透氢过程包含以下五个步骤:

(1)    氢分子在钯膜表面进行化学吸附;

(2)    吸附的氢分子解离成氢原子,并溶解于钯膜;

(3)    氢原子在钯膜中从滞留侧扩散到渗透侧;

(4)    氢原子从钯膜渗透侧析出,并重新结合成氢气分子;

(5)    氢气分子从钯膜表面脱附。

UHP系列氢气纯化器

三、主要技术指标
氢气纯度:≥ 99.9999999%(9N);      氢气纯化量:0-50 m3/h
原料氢压力: 0-2.5 MPa                         纯化氢压力:根据纯化流量自适应
原料氢含氢量:不小于50%                      工作时间:连续使用   
设备标配纯度监测(露点法)确保掌握实时输出的氢气纯度,基于钯膜氢渗透纯化的原理,可以使用露点法准确的判断出氢气纯度。 

四、应用场景详解

可利用的原料氢来源有:重整制氢(煤、天然气、汽油、柴油、石脑油、甲醇、乙醇、二甲醚、乙醚等);各种副产氢(氯碱、炼化、石化、焦化、煤化工等);化学分解制氢(氨、铝、硼氢化物、氢化物、甲酸等);电解(碱液、纯水)制氢等。

可广泛用于氢能、半导体芯片、烧结炉保护气、MOCVD、人造金刚石、色谱分析等领域,以及氢气/氦气分离、氢同位素(氕氘氚)的分离与纯化。

半导体芯片、液晶显示器-CVD氢气纯化器

 ■半导体芯片的CVD制造工艺所需氢气纯度8N~12N,只能通过钯膜纯化。本公司产品打破了国外垄断,也可为TFT-LCD液晶显示器的CVD工艺提供关键电子气。

人造金刚石用氢气纯化器

 ■用于MPCVD工艺,显著提升人造金刚石的质量和成色(特别是用作首饰)。

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